FISCHERSCOPE® X-RAY XDV® 850 to precyzyjny spektrometr fluorescencji rentgenowskiej, zaprojektowany do analizy bardzo cienkich powłok oraz pierwiastków śladowych. Wyposażony w duży detektor SDD 50 mm² i automatyczny stolik XY umożliwia szybkie i powtarzalne pomiary nawet najbardziej wymagających struktur. Doskonale sprawdza się w elektronice, półprzewodnikach oraz kontroli powłok szlachetnych.
Urządzenie gwarantuje najwyższą precyzję tam, gdzie nawet minimalne odchylenia mają znaczenie — np. przy złocie o grubości kilku nanometrów. Umożliwia stabilną i powtarzalną kontrolę jakości, przyspieszając analizę bez utraty dokładności.
-
Fluorescencja rentgenowska (XRF – EDXRF)
Technologia XRF wykorzystuje analizę energii promieniowania fluorescencyjnego do określania składu pierwiastkowego oraz grubości powłok. W XDV® 850 metoda ta pozwala analizować warstwy tak cienkie, jak 2–50 nm, a także złożone układy wielowarstwowe.
-
Detektor SDD 50 mm²
Duży detektor półprzewodnikowy o powierzchni 50 mm² zapewnia bardzo wysoką liczbę zliczeń, co skraca czas akwizycji i poprawia dokładność pomiarów. Umożliwia to analizę powłok o minimalnej grubości i niskich stężeniach metali.
-
Programowalny stolik XY i automatyczna oś Z
Precyzyjny układ pozycjonowania umożliwia automatyczne serie pomiarów oraz skanowanie dużych próbek. Szybki autofocus zmniejsza liczbę błędów i przyspiesza ustawienie próbki.
-
Podwójny system kamer + laser do pozycjonowania
Kamera przeglądowa i kamera szczegółowa umożliwiają szybkie odnajdywanie punktu pomiarowego. Wskaźnik laserowy i oświetlenia LED ułatwia precyzyjne ustawienie nawet refleksyjnych powierzchni.
-
Automatycznie zmieniane apertury i filtry
System automatycznej zmiany kolimatorów i filtrów zapewnia optymalne warunki wzbudzenia dla różnych aplikacji — od wielowarstwowych układów na konektorach do zwykłych powłok cynkowych na dużych częściach.
Analiza powłok w ultracienkich zakresach
XDV® 850 mierzy powłoki tak cienkie, jak 2 nm (np. warstwy Au na lead frame’ach), co umożliwia precyzyjną kontrolę jakości w mikroelektronice i półprzewodnikach. Urządzenie jest zgodne z normami IPC dotyczącymi pomiaru powłok ochronnych.
Zapewnia wiarygodne wyniki w aplikacjach, gdzie liczą się najmniejsze różnice grubości.
Wysoka szybkość pracy dzięki detektorowi 50 mm²
Duży detektor umożliwia rejestrację dużej ilości sygnału w krótkim czasie, co skraca pomiar nawet skomplikowanych systemów powłokowych. Pozwala to analizować więcej próbek w krótszym czasie, bez utraty jakości.
Zwiększasz wydajność kontroli jakości, nie rezygnując z dokładności.
Automatyzacja procesów pomiarowych
Programowalny stolik i oś Z umożliwiają tworzenie sekwencji, planów pomiarowych oraz automatyczne skanowanie większych powierzchni. Urządzenie wspiera pracę operatora i eliminuje błędy pozycjonowania.
Oszczędzasz czas i masz pewność, że każdy pomiar jest wykonywany identycznie.