WYDARZENIE TESTOWE NR 1

28-16 grudnia, WYDARZENIE TESTOWE NR 1 PEŁNE

Sprawdź szczegóły
search
koszyk
koszyk
search
koszyk
koszyk
  1. Start
  2. > Oferta
  3. > Systemy pomiarowe
  4. > Spektrometry
  5. > Spektrometr XRF do najcieńszych powłok FISCHERSCOPE® X-RAY XDV® 850

Spektrometr XRF do najcieńszych powłok FISCHERSCOPE® X-RAY XDV® 850 Helmut Fischer

  • Bardzo wysoka dokładność przy pomiarze ultracienkich powłok i metali szlachetnych.
  • Detektor SDD 50 mm² — szybka analiza nawet wymagających zastosowań.
  • Duży kolimator — duża powtarzalność i szybka praca seryjna.

Kiedy wybrać:
Gdy potrzebujesz dokładnego pomiaru cienkich powłok.

Zapytaj o ofertę
Dział sprzedaży

Zainteresował Cię ten produkt?

FISCHERSCOPE® X-RAY XDV® 850 — spektrometr XRF do najcieńszych powłok

Opis

FISCHERSCOPE® X-RAY XDV® 850 to precyzyjny spektrometr fluorescencji rentgenowskiej, zaprojektowany do analizy bardzo cienkich powłok oraz pierwiastków śladowych. Wyposażony w duży detektor SDD 50 mm² i automatyczny stolik XY umożliwia szybkie i powtarzalne pomiary nawet najbardziej wymagających struktur. Doskonale sprawdza się w elektronice, półprzewodnikach oraz kontroli powłok szlachetnych.

Urządzenie gwarantuje najwyższą precyzję tam, gdzie nawet minimalne odchylenia mają znaczenie — np. przy złocie o grubości kilku nanometrów. Umożliwia stabilną i powtarzalną kontrolę jakości, przyspieszając analizę bez utraty dokładności.

Technologia

  • Fluorescencja rentgenowska (XRF – EDXRF)

    Technologia XRF wykorzystuje analizę energii promieniowania fluorescencyjnego do określania składu pierwiastkowego oraz grubości powłok. W XDV® 850 metoda ta pozwala analizować warstwy tak cienkie, jak 2–50 nm, a także złożone układy wielowarstwowe.

  • Detektor SDD 50 mm²

    Duży detektor półprzewodnikowy o powierzchni 50 mm² zapewnia bardzo wysoką liczbę zliczeń, co skraca czas akwizycji i poprawia dokładność pomiarów. Umożliwia to analizę powłok o minimalnej grubości i niskich stężeniach metali.

  • Programowalny stolik XY i automatyczna oś Z

    Precyzyjny układ pozycjonowania umożliwia automatyczne serie pomiarów oraz skanowanie dużych próbek. Szybki autofocus zmniejsza liczbę błędów i przyspiesza ustawienie próbki.

  • Podwójny system kamer + laser do pozycjonowania

    Kamera przeglądowa i kamera szczegółowa umożliwiają szybkie odnajdywanie punktu pomiarowego. Wskaźnik laserowy i oświetlenia LED ułatwia precyzyjne ustawienie nawet refleksyjnych powierzchni.

  • Automatycznie zmieniane apertury i filtry

    System automatycznej zmiany kolimatorów i filtrów zapewnia optymalne warunki wzbudzenia dla różnych aplikacji — od wielowarstwowych układów na konektorach do zwykłych powłok cynkowych na dużych częściach.

Pełny podgląd próbki z kamerą overview w systemie FISCHERSCOPE XDV

Analiza powłok w ultracienkich zakresach

XDV® 850 mierzy powłoki tak cienkie, jak 2 nm (np. warstwy Au na lead frame’ach), co umożliwia precyzyjną kontrolę jakości w mikroelektronice i półprzewodnikach. Urządzenie jest zgodne z normami IPC dotyczącymi pomiaru powłok ochronnych. 
Zapewnia wiarygodne wyniki w aplikacjach, gdzie liczą się najmniejsze różnice grubości.
Wielostrefowe oświetlenie LED i kamera overview w FISCHERSCOPE XDV do precyzyjnej analizy

Wysoka szybkość pracy dzięki detektorowi 50 mm²

Duży detektor umożliwia rejestrację dużej ilości sygnału w krótkim czasie, co skraca pomiar nawet skomplikowanych systemów powłokowych. Pozwala to analizować więcej próbek w krótszym czasie, bez utraty jakości. 
Zwiększasz wydajność kontroli jakości, nie rezygnując z dokładności.
Wnętrze komory pomiarowej FISCHERSCOPE XDV ze stolikiem do pozycjonowania próbki

Automatyzacja procesów pomiarowych

Programowalny stolik i oś Z umożliwiają tworzenie sekwencji, planów pomiarowych oraz automatyczne skanowanie większych powierzchni. Urządzenie wspiera pracę operatora i eliminuje błędy pozycjonowania. 
Oszczędzasz czas i masz pewność, że każdy pomiar jest wykonywany identycznie.

Masz pytania? Potrzebujesz pomocy?

Wzorcowanie i utrzymanie dokładności

Najczęściej zadawane pytania

FAQ

Jak cienkie powłoki można mierzyć XDV® 850?

Urządzenie pozwala analizować warstwy już od 2 nm grubości, co sprawdza się w elektronice, półprzewodnikach i powłokach z metali szlachetnych.

Dla kogo przeznaczone jest XDV® 850?

Dla firm wymagających najwyższej dokładności pomiaru powłok: branża elektroniczna, półprzewodnikowa, galwaniczna oraz producenci elementów o bardzo małych strukturach.

Czy urządzenie umożliwia automatyczne pomiary seryjne?

Tak — dzięki stolikowi XY i osi Z można tworzyć sekwencje pomiarowe oraz skanować duże i małe powierzchnie w sposób w pełni automatyczny.

W jaki sposób ustawiana jest próbka?

Próbka pozycjonowana jest za pomocą kamer (przeglądowej i detalicznej) oraz lasera wskazującego, co pozwala szybko i precyzyjnie wybrać punkt pomiaru.

Jakie normy spełnia XDV® 850?

Spełnia normy DIN ISO 3497, ASTM B 568 oraz IPC-4552, IPC-4553A, IPC-4554 — więc jest zgodny z wymaganiami kontroli jakości w elektronice i mikroelektronice.

Zapytaj o produkt

Zadzwoń do nas

+48 61 222 58 11
Skontaktuj się z nami, nasi eksperci pomogą dobrać produkt
pod Twoje indywidualne potrzeby i przygotują ofertę.

Pliki do pobrania